冠亚恒温
制冷加热控温系统
无锡冠亚制冷加热系统性能优越，高精度、智能型温度控制，非常宽的温度控制范围，从-120℃~350℃一应俱全，适合多数企业恒温控制需求。产品控温精度可达±0.5℃，制冷功率从0.5kW到1200kW均可提供相应产品。
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TCU温控系统
无锡冠亚TCU温控系统可实现-120度~300度的动态控温，TCU温控系统采用现有的热能（如蒸汽、冷却水及超低温液体——即“初级系统”）基础设施集成到用来控制工艺设备温度的单流体系统或二级回路中。这就完成了只有一种热传导液体流入到反应容器的夹套中（而不是直接通入蒸汽、冷却水或超低温液体），通过运算控制整个反应过程温度。
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低温冷冻机
无锡冠亚生产低温制冷机，非常宽的制冷温度范围，可控温度-150度～-5度。采用二次过冷，制冷速度快，安全可靠，用于液体快速制冷，广泛应用于石化、医疗、制药、生化、冻干、制药、等行业低温反应。
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大事记EVENTS
行业动态Industry dynamics
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0在化工生产领域，反应釜的温度控制直接影响化学反应的速率、转化率及产物纯度。导热油二次循环系统作为一种温控解决方案，通过优化传热路径与控温逻辑，为化工反应釜提供了稳定的温度环境。 一、系统工作原理与基...
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在工业生产领域，许多工艺过程对温度控制有着严苛的要求，尤其是需要在宽广温度范围内实现准确控温的场景。大型制冷加热循环机作为关键的温控设备之一，其性能影响到生产的稳定性和产品质量。 一、宽温域控温的技...
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在化工与制药行业的生产过程中，温度控制的准确性与稳定性直接影响产品质量与工艺安全。闭式冷热循环机作为一种全密闭式温度控制设备，通过成熟的系统设计与控温逻辑，在复杂工况下实现了宽温区的准确温度管理。 ...
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在半导体制造的薄膜沉积工艺CVD/PVD中，温度控制的稳定性直接影响薄膜的均匀性、致密度及晶体结构，进而决定芯片的电学性能与可靠性。薄膜沉积冷水机作为工艺温控的核心设备之一，通过成熟的系统设计与准确的控温...
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在工业温控领域，多温区同步控制需求推动了制冷设备的技术迭代。三通道冷水机Triple Channel Chiller作为实现宽温区、高精度温度控制的核心设备之一，其技术架构与控制逻辑在半导体、新能源等领域的复杂工艺中应...
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在半导体制造领域，准确的温度控制有助于器件性能和生产良率。双通道直冷机作为一种温控设备，通过成熟的设计架构，在半导体设备中展现出并行温控能力。这种设备将制冷系统中的制冷剂直接输出蒸发进入目标控制元...
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